HP Gas Analysis

RM	RM No.	Composition	Relative Expanded Uncertainty	RM Description
Helium	BW(DT)0143	Ar、O2、CH4、CO2、Ne、H2、CO、N2 1.00—1000(μmol/mol) He balance	2%(k=2)	GB/T 4844_ pure helium; HP helium; UHP Helium
Argon	BW(DT)0113	O2、CH4、CO2、H2、CO、N2 1.00—1000(μmol/mol) Ar balance	2%(k=2)	GB/T 4842-2017 Argon
Hydrogen	BW(DT)0110	Ar、O2、CH4、CO2、CO、N2 1.00—1000(μmol/mol) H2 balance	2%(k=2)	GB/T 3634.2 Hydrogen part 2 ：Hydrogen，HP hydrogen，UHP Hydrogen
NItrogen	BW(DT)0159	Ar、O2、CH4、CO2、H2、CO 1.00—1000(μmol/mol) N2 balance	2%(k=2)	GB/T 16944-2009 Gases for electronic industry- Nitrogen GB/T8979-2008 pure nitrogen, HP nitrogen, UHP nitrogen
Oxygen	BW(DT)0134	Ar、CH4、CO2、H2、CO、N2 1.00—1000(μmol/mol) O2 balance	2%(k=2)	GB/T 14599-2008 pure oxygen, HP oxygen, UHP oxygen GB/T 14604-2009 Gases for electronic industry-Oxygen
CO2	BW(DT)0108	Ar、O2、CH4、H2、CO、N2 1.00—1000(μmol/mol) CO2 balance	2%(k=2)	GB/T 23938-2009 HP carbon dioxide
CO	BW(DT)0162	Ar、O2、CH4、CO2、H2、N2 1.00—1000(μmol/mol) CO balance	2%(k=2)	GB/T 35995-2018 carbon monoxide
Neon	BW(DT)0171	Ar、O2、CH4、CO2、H2、CO、N2 1.00—1000(μmol/mol) Ne balance	2%(k=2)	GB/T 17873-2014 pure Neon and HP Neon
Krypon	BW(DT)0171	Ar、O2、CH4、CO2、H2、CO、N2、Xe 1.00—1000(μmol/mol) Kr Balance	2%(k=2)	GB/T 5829-2006 Krypon
Xenon	BW(DT)0171	Ar、O2、CH4、CO2、H2、CO、N2 、Kr、N2O 1.00—1000(μmol/mol) Xe balance	2%(k=2)	GB/T 5828-2006 Xenon
Methane	BW(DT)0142	Ar、O2、CO2、H2、CO、N2、C2H6、H2S 1.00—1000(μmol/mol) CH4 balance	2%(k=2)	GB/T 33102-2016 pure methane and HP methane